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负光刻胶刚好和正光刻胶相反，是指在光刻工艺中，暴露在光线下的部分不溶于显影剂，未曝光部分则可以被光刻胶显影剂所溶解。

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其中JSR占据全球光刻胶市场28%的份额，东京应化（TOK）占比21%，美国杜邦占比15%，信越化学占比13%，富士电子材料占比10%。

在光刻工艺中，光刻胶被均匀涂布在硅片、玻璃和金属等不同的衬底上，经曝光、显影和蚀刻等工序将掩膜版上的图形转移到薄膜上，形成与掩膜版完全对应的几何图形。

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晶瑞股份：公司规模生产光刻胶近30年，i线光刻胶已向中芯国际等国内的知名大尺寸半导体厂商供货；KrF（248nm深紫外）光刻胶完成中试，产品已进入客户测试阶段。

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数据宝（shujubao2015）：证券时报智能原创新媒体。

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从产品类型来看，我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率较低，仅为5%左右，主要日本和韩国外资品牌占领，触控屏光刻胶技术上有所突破，国产化率在30%-40%左右。

北京科华的I线光刻胶已接近国际先进水平，其种类涵盖国内14nm以上大部分工艺需求；KrF产品在Poly、AA、Metal等关键层工艺完成了重大突破，获得客户批量使用；同时TM/TV、Thick、Implant、ContactHole等工艺市占率持续提升。